UMC与SuVolta 宣布联合开发28纳米低功耗工艺技术

2021-01-20 00:28:01
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本文摘要:UMC的28纳米高K/金属栅极工艺使用苏沃塔的DDC技术指向市场中的移动应用2013年7月23日/童鸣新闻专线/-台湾新竹,加利福尼亚州洛斯蒂托斯莲花电子公司(纽约证券交易所代码:NYSE : UMC;TWSE: 2303) (UMC)和苏沃塔公司今天宣布,他们共同开发了28纳米技术。

UMC的28纳米高K/金属栅极工艺使用苏沃塔的DDC技术指向市场中的移动应用2013年7月23日/童鸣新闻专线/-台湾新竹,加利福尼亚州洛斯蒂托斯莲花电子公司(纽约证券交易所代码:NYSE : UMC;TWSE: 2303) (UMC)和苏沃塔公司今天宣布,他们共同开发了28纳米技术。在这个过程中,苏沃塔的深度耗尽沟道(DDC)晶体管技术被纳入UMC的28纳米高K/金属栅极(HKMG)高性能移动(HPM)工艺。苏沃塔和UMC密切合作,利用DDC晶体管技术降低泄漏功耗,提高静态随机存取存储器的低压性能。

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两家公司还宣布,工艺技术将高度灵活:DDC PowerShrink低功耗平台选项:DDC技术中使用所有晶体管,打造最佳功耗和性能优势;DDC DesignBoost晶体管的开关选项:DDC晶体管用于替代现有设计中的一些晶体管。该选项的典型应用是使用DDC晶体管代替泄漏功耗较大的晶体管来减少泄漏,或者替换静态随机存取存储器位单元晶体管来提高性能和降低工作电压(VMIN)。UMC先进设备技术部副总裁李光耀回应说:在未来几周或几个月内,我们希望看到与苏沃塔联合开发的技术取得更好的效果,以进一步测试DDC技术给UMC 28纳米HKMG工艺带来的功耗和性能优势。通过将苏沃塔的先进设备技术引入我们的HKMG流程,我们将获得一个28纳米移动计算流程平台,以完善我们现有的保利SiON和HKMG技术。

苏沃塔公司总裁兼首席执行官布鲁斯麦克威廉姆斯博士回应道:UMC和苏沃塔团队将DDC技术融入到UMC的28纳米工艺中,并取得了显著的进步。通过合作,我们开发的技术使UMC客户的设计更容易复制。

此外,SuVolta让业界可以自由选择替代廉价简单的工艺技术,从而推动未来移动设备的发展。约姆坎姆公司(纽约证券交易所: UMC,TWSE : 2303)是世界半导体晶片行业的领导者,获得先进的设备技术和晶片生产服务,并为主要用于集成电路行业的各种产品生产芯片。UMC的原始解决方案使芯片设计公司能够利用尖端技术,包括28纳米多晶硅技术、高K/金属栅背栅技术、混合信号/RFCMOS技术以及其他常见的类似工艺技术。UMC现在有10个晶圆厂,包括两个12英寸的工厂,包括台湾的工厂12A和新加坡的工厂12i。

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Fab 12A工厂的第一至第四阶段目前为28纳米客户产品生产最先进的设备,第五和第六阶段正在建设中,第七和第八阶段正在规划中。UMC在世界各地拥有约15,000名员工,并在台湾、中国大陆、欧洲、日本、韩国、新加坡和美国设立了服务基地。UMC公司的网站是:http://www.umc.com。

关于苏沃塔公司,苏沃塔公司致力于为低功耗和高性能芯片开发和许可可扩展半导体技术。苏沃塔总部设在硅谷,拥有一批世界级的工程师和科学家。它在技术研发和创新方面有着悠久的历史,促进了半导体产业的发展。苏沃塔已经赢得了领先风险投资公司的反对,包括凯鹏华盈(KPCB)、奥古斯特资本、NEA、光明资本、北门资本和达戈风险投资公司。

更多信息,请采访www.suvolta.com。想了解更多关于苏沃塔的技术,我要求采访www.suvolta.com/technology/technology-overview/.'s关于苏沃塔的技术许可信息。欢迎致电http://witter.com/Suvoltainc Media Contact :企业传讯部余(886) 2-2658-9168转。

16951 richard_yu@umc.com苏沃塔有限公司Margo Westfall 1(408)429 6058 Westfall @苏沃塔.com the Hoffman Agency Steve Jursa 1(408)975 3029 sjursa @ Hoffman。


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